8月1日，晶瑞股份通過官方微信宣布，TOK前中國區部長陳韋帆先生加入晶瑞股份光刻膠事業部，并擔任總經理職務。
資料顯示，陳韋帆先生曾就讀于臺灣陽明交通大學材料科學博士班。深耕半導體行業近20年，曾先后履職力晶、日月光、友達光電、美光(臺灣)、TOK等知名半導體企業。在TOK任職10年并擔任中國區部長職務，尤其在高端光刻膠產品的技術研發、市場開拓及評價實施上擁有經驗豐富，在我國芯片制造領域擁有廣泛的資源。
目前，在全球半導體光刻膠領域，主要被日本合成橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、羅門哈斯、日本信越和富士材料等頭部廠商所壟斷。其中，在高端半導體光刻膠市場上，全球的 EUV 和ArF光刻膠主要是由 JSR、陶氏和信越化學等供應商供應，占有份額最大的是 JSR、信越化學，TOK 也有研發。TOK公司一直專注于做光刻膠及配套試劑，目前在行業里 G、I 線，KrF 和 ArF 都有些市場份額，不過在高端的ArF技術上仍落后于 JSR、陶氏和信越化學。
晶瑞股份表示，“此次陳韋帆先生的加入將會大力提高公司在高端光刻膠的研發及市場推廣的速度。預祝在陳韋帆先生帶領下，光刻膠業務開辟新疆域，走向新篇章。”
為加強光刻膠事業部整體實力，加快光刻膠產品的推進速度，抓住行業發展的歷史性機遇，公司近年來，持續加大在G/I線光刻膠進一步擴大市場占有率、KrF光刻膠的產業化實施、ArF光刻膠的研發等方面的投入力度。
其中，在光刻膠領域，晶瑞股份的子公司蘇州瑞紅已經規模化生產光刻膠近30年，承擔并完成了國家重大科技項目02專項“i線光刻膠產品開發及產業化”項目，擁有達到國際先進水平的光刻膠生產線，產品已經達到國際中高級水準，是國內最早規模量產光刻膠的少數幾家企業之一，其i線光刻膠已向中芯國際、合肥長鑫、士蘭微、揚杰科技等行業頭部客戶供貨;另外公司高端KrF (248) 光刻膠完成中試，去年還斥資1102.5萬元購入了一臺ArF型浸入光刻機型號為ASML XT 1900 Gi，以便于進行ArF高端光刻膠的研發，目前相關研發工作已正式啟動，旨在研發滿足90-28nm芯片制程的ArF (193nm)光刻膠，滿足當前集成電路產業關鍵材料市場需求。
